- [檢測(cè)百科]分享：工業(yè)純鈦TA2的電解拋光/腐蝕工藝2025年05月22日 14:39
- 對(duì)工業(yè)純鈦TA2的電解拋光/腐蝕的電解液配方和工藝參數(shù)進(jìn)行了研究與優(yōu)化，得到的最佳電解液配方是90 mLHF，20 g（NH4）2S2O8，200 mL CH3CH2OH，360 mL H2O，與之匹配的工藝參數(shù)是拋光電壓50 V，電解液流量20 mL/s，拋光時(shí)間50 s，電解拋光/腐蝕后得到的試樣表面平整，組織清晰，無(wú)污染，且制樣時(shí)間短，較機(jī)械拋光/腐蝕有很大的進(jìn)步，采用該配方，調(diào)整相應(yīng)工藝參數(shù)便可電解拋光其他鈦合金材料。
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